Fíoraigh an difríocht idir plating folúis agus plating uisce

Fíoraigh an difríocht idir plating folúis agus plating uisce

Má iarrann duine ort, cad é leictreaphlátála? Cad a deirfeá? Deir cuid acu go bhfuil pléascadh uisce ann, deir cuid acu i bhfolús. Cé acu atá ceart? Go deimhin, ciallaíonn "leictreaphlátáil" rudaí difriúla i dtionscail éagsúla. Mar shampla, sa tionscal fón póca atá ann faoi láthair, níl ach beagán iarratais ar leictreaphlátála uisce. I ndaoine a lán daoine, tagraíonn leictreaphlátáil go ginearálta le pláthachán folúis, agus sa tionscal earraí sláintíochta déantar forleathnú leictreachais uisce, ar ndóigh, tagraíonn leictreaphlátáil coitianta le leictreaphlátála uisce. Baineann an dá leictreaphlátáil uisce agus an fholúsphláta le scannán leictreaphlátála. Tosaímid ó rangú na scannán cóta, agus féach an difríocht idir cineálacha éagsúla sciath.

Déantar táirgí leictreaphlátála a aicmiú mar seo a leanas de réir an mhodh foirmithe:

1. Modh chéim soladach: ---> athrú ceimiceach;

2. Modh céim leachtach: ---> athrú ceimiceach

3. Modh meitéareolaíochta: -> athruithe ceimiceacha agus fisiceacha

An aicmithe mar seo a leanas:

I measc na modhanna coiteann coitianta tá: plating uisce, anodization, galú folús, spatter bhfolús agus plating ian.

Plating uisce:

Eochairfhocail: díscaoileadh anodic, iatán catóide, imoibriú leictriceimiceach

Úsáidtear an modh leictreaphlátála uisce go príomha chun éifeacht ardfhrithchaiteora a chruthú agus ciseal greamaitheachta a mhéadú, etc. Is iad na buntáistí atá ann ná réimse mór plating, ísealchostas, tocsaineacht ard leictreachais agus truailliú mór tionsclaíoch.

Líne uisce-plating

Próiseas ocsaídiúcháin anodic :

Keywords: scannán ocsaíd miotail, imoibriú leictreamaiceimiceach

Is féidir ocsaídiú anodic a dhéanamh freisin i Ta2O2, TiO2, ZrO2, Nb2O5, HfO2, WO3, etc., a úsáidtear go príomha mar scannán cosanta nó scannán maisiúcháin cosanta.

Anodized táirge

Tugtar galú teirmeach freisin do ghaothú folúis

Eochairfhocail phróiseas: galú tuaslagtha teocht ard, taisceadh tar éis scannán a chlúdach

De réir na modhanna téimh éagsúla d'ábhair scannáin, is féidir galar folúis a roinnt ina chineál teasa indíreach agus cineál teasa díreach.

1. Cineál teasa neamhdhíreach: ach amháin le haghaidh an fhoinse galúcháin, rud a chiallaíonn go neamhdhíreach go ndéanann an t-ábhar scannáin air é a mhaolú mar gheall ar theas;

2. Cineál teasa dhíreach: úsáid a bhaint as cáithníní ardfhuinnimh (bhíoma leictreon, plasma nó léasair) nó minicíocht ard chun an t-ábhar scannán a théamh go díreach ar an bhfoinse galúcháin agus a mhaolú; *

Chun an fhoinse (coimeádán) a mhaolú mar aon leis an ábhar scannáin, ní mór go mbeadh pointe leá an fhoinse ábhair níos airde ná an fiuchphointe den ábhar scannáin.

Prionsabal glactha

Teas agus galú frithsheasmhachta

Téitear an t-ábhar scannáin go hindíreach ag an bhfuinneamh teirmeach a ghineann an t-ábhar leictreachais a théann tríd an fhriotaíocht. Seo a leanas an gléas:

Teas agus galú frithsheasmhachta

Míbhuntáistí a bhaineann le téamh friotaíochta:

1. Is gá an foinse ghalúcháin a théamh sular aistrítear teas chuig an ábhar scannáin. Tá an fhoinse galú éasca le gníomhú ar an ábhar nó na neamhíonachtaí luaidhe;

2. Tá teocht teasa an fhoinse galú teoranta, agus ní féidir an chuid is mó den ocsaíd ag pointe leá ard a leá agus a ghlanadh;

3. Luas galar teoranta;

4. Más cumaisc é an t-ábhar sciath, féadfar é a dhiúltú;

5. Níl an scannán crua, le dlús íseal agus greamaitheacht bocht.

Sciath sputtering

Eochairfhocail: gás támh ianaithe, spriocbhuailiú, spriocáil sceite, taisceadh, fuaraithe, foirmiú scannáin

Is é prionsabal an mheaisín sciathán sputtering aer a phumpáil cavity i stát an fholús, go díreach leis an ábhar membrane (sprioc) mar leictreoidí, trí úsáid a bhaint as leictreoidí féach leictreachas 5 kv ~ 15 kv plasma bombarding ábhar sprioc, aeráil le gás ag an am céanna, ionization gáis, ag gluaiseacht cáithníní laistigh den phlasma, spriocdhírithe tionchar ian agus na n-adamh ábhair as a ndearnadh taiscthe ar dhromchla an tsubstráit, ag fuarú an chomhdhlúite i scannán.

Tairiscint Sputtering Magnetron

Feabhsaítear struchtúr an leictreoid ar bhonn sputtering nó minicíocht raidió, is é sin, maighnéad buan socraithe ar thaobh istigh an chaidóid, agus tá an réimse maighnéadach ingearach le treo an réimse leictreach sa limistéar dorcha, mar sin chun srian a chur le hoibriú cáithníní gearrtha le réimse maighnéadach. Tugtar sputtering magnetron ar an modh sputtering seo .

Maighnéadán ag léaráid ar an léaráid scéimeach

Toisc go bhfuil fórsa an réimse maighnéadach ingearach le treo na n-leictreon, déanfar fórsa centripetal an chiclogenesis leictreonacha a chruthú. Ag an am seo, tá an dóchúlacht go dtarlóidh imbhualadh idir speiceas neodrach, agus is féidir scannáin tanaí a dhéanamh ag brú íseal.

Chomh maith le brú íseal, is é an dá bhuntáiste eile atá ag sputtering magnetron luas ard agus teocht íseal.

Ach tá fadhbanna áirithe ag magnetron sputtering, mar shampla leictreoid rialaithe maighnéadach rialaithe maighnéadach plánaí maighnéadach, nach bhfuil an t-ábhar sprioc lárnach agus imeallach ingearach leis an gcomhpháirt réimse maighnéadach den ghléasra cumhachta níos mó agus níos mó, ie comhthreomhar le dromchla sprioc an réimse maighnéadach tá an comhpháirt beag, i limistéar ciorclach ar dhromchla an ábhair thábhachtach trí sputtering neamhghnách go tapa, cé go bhfuil an t-ábhar lárnach agus an imeall níos lú, mar sin beidh sé ina ghleann creimeach i bhfoirm w, laghdaítear an ráta úsáide de spriocdhírigh, agus féadfaidh sé difear an éideacht scannán.

Prionsabal na n-ionstraimí

Plátaí Ión

Eochairfhocail: urscaoileadh gáis bhfolús, sprioc dissociation, ábhar bonn buamaithe

Is é an prionsabal is mó ná an t-ábhar scannán a dhíshealbhú i stát ian trí úsáid a bhaint as an bhfeiniméan scaoilte gáis agus ansin é a thaisceadh ar an tsubstráit.

Is é an córas leictreaphlátála bunúsach maidir le plating ian ná an córas PVD, rud a chuireann gáis imoibríocha ach amháin chun freagairt a dhéanamh leis an ábhar scannáin tar éis galúcháin agus ansin taiscí ar an tsubstráit chun comhdhúile a fhoirmiú. Dá bhrí sin, tá comhdhéanamh an tsciath scannáin difriúil ón ábhar scannán bunaidh, agus is cumaisc í an t-ábhar bonn.

Go bunúsach tá trí chéim i gceist:

1. Atmaí soladacha a athrú i n-adamh gásacha: is féidir le foinsí galú éagsúla agus meicníochtaí sputtering éagsúla a mhaolú i bhfolús chun an cuspóir seo a bhaint amach;

2. Cas a n-adamh gásach i stáit ianacha chun an méid ionais a bhaineann leis an amhábhar a mhéadú (de ghnáth go dtí 1) . Is féidir éagsúlacht d'eilimintí ian a úsáid chun fuinneamh a aistriú chuig na haimhrimh amhábhar chun an méid ionaisithe a bhaint amach ag an tús;

3. Fuinneamh an ábhair ianach a mhéadú chun caighdeán an scannáin a fheabhsú: is féidir cumas luasghéarú na n-ian a bhaint amach trí chlaonadh diúltach cuí a chur leis go bunúsach .

Is iad seo a leanas saintréithe na hiodrála:

1. Is féidir pléascadh ian a dhéanamh ag teocht níos ísle de 600 céim;

2. greamaitheacht mhaith;

3. Sroicheann an dea-fhuinneamh dhromchla go bhfuil an adhainte bunúsach agus taiscí an sciath;

4. Is é an luas taiscí go tapa, ag teacht 1 ~ 5um, cé go bhfuil luas sputtering an phláta tánaisteach ach 0.01 ~ 1.0um / min;

5. Tá an t-ábhar próiseála agus roghnaíocht na n-ábhar scannáin tanaí leathan. Chomh maith le miotail, criadóireacht, gloine agus plaistigh is féidir a phróiseáil.

PVD trí chatagóir de shaintréithe teicniúla comparáide

Ar an gcéad dul síos, is é an próiseas sciath coiteann simplí a bheidh ann. Más mian leat ábhar níos suimiúla a roinnt, is féidir leat teachtaireacht a fhágáil ag deireadh an earra.

Rinne PVD IKS saincheaptha ar an meaisín sciath pVD oiriúnach le haghaidh duit, déan teagmháil linn anois.

iks.pvd@foxmail.com